Partikuläre Sauberkeitsanforderungen bis in den Submikrometer-Bereich und hohe Reinheiten hinsichtlich filmisch-organischer und anorganischer Restkontaminationen sind bei Hightech-Bauteilen, seien es metallische, optische oder Kunststoff-Komponenten, zu erfüllen. Der Bedarf nimmt in sämtlichen Branchen kontinuierlich zu. Auf diese Veränderungen hat acp systems mit reinraumgerecht ausgelegten Lösungen ihrer quattroClean-Schneestrahltechnologie reagiert. Es handelt sich dabei um ein trockenes Verfahren für die ganzflächige oder partielle Bauteilreinigung. Reinigungsmedium ist klimaneutrales, flüssiges Kohlendioxid, das durch eine verschleißfreie Zweistoff-Ringdüse geleitet zu feinen Schneepartikeln entspannt und gebündelt durch einen Druckluftstrahl auf der zu reinigenden Oberfläche durch vier Wirkmechanismen partikuläre und filmische Kontaminationen entfernt. quattroClean-Reinigungssysteme sind unter anderem bei Herstellern aus der Medizin- und Pharmatechnik, Sensor- und Mikrosystemtechnik, Elektronik, Halbleiterzulieferindustrie, Präzisionsoptik, Luft- und Raumfahrt, Kommunikationstechnologie sowie Automobilindustrie in Reinräumen unterschiedlicher ISO-Klassen im Einsatz. Um Kunden aus diesen Industriebereichen die Durchführung von Reinigungsversuchen unter hochreinen Bedingungen zu ermöglichen, hat das Unternehmen zu seinem 25- jährigen Jubiläum am Standort Ditzingen ein Reinraum-Technikum fertiggestellt.
Basis des neuen Technikums ist ein validierter Reinraum der Klasse ISO 7 mit Zonen bis Klasse 5 nach ISO 14644–1. Den hohen Anforderungen der Reinraumklasse 5 entspricht auch die Konstruktion und Ausstattung der beiden integrierten Reinigungssysteme JetStation-HP. Die Medienaufbereitung für das flüssige Kohlendioxid stellt eine Reinheit des Prozessmediums von 99,995 Prozent sicher. Die Druckluftaufbereitung gewährleistet die Qualität 1.2.1. entsprechend ISO 8573–1:2010. Integriert in diese Reinstmedienversorgung für die Druckluft (XCDA) ist darüber hinaus ein Gaswäscher, der Spuren organischer Stoffe herausfiltert, so dass die beispielsweise in der Halbleiter-Produktion geforderte Luftqualität erzeugt wird.
Das Reinraum-Technikum eröffnet damit die Möglichkeit, Reinigungsversuche und Machbarkeitsstudien bei einem breiten Spektrum von Bauteilen mit hohen Reinheitsanforderungen durchzuführen, beispielsweise Grade 1. Dies schließt Komponenten ein, die aufgrund ihrer Dimensionen oder durch einen bereits vormontierten Zustand nicht nasschemisch gereinigt werden können beziehungsweise bei denen mit bisher eingesetzten Verfahren die erforderliche Reinheit nicht reproduzierbar erreicht wird. Für die Kontrolle der erzielten Sauberkeit stehen verschiedene Nachweistechnologien zur Verfügung. Ein eventuell erforderlicher Transport der gereinigten Komponenten erfolgt in reinraumgerechter Verpackung.
Das Reinraum-Technikum ergänzt das bestehende, in einen Sauberraum integrierte Versuchslabor. Es wird üblicherweise für Reinigungsaufgaben aus verschiedenen Branchen genutzt, bei denen ganzflächig oder partiell eine technische partikuläre Sauberkeit bis 100 Mikrometer gefordert wird. Das Sauberraum-Versuchslabor eignet sich daher, um Komponenten für die Reinigung im Reinraum vorzubereiten.
